A.外国人John创作的布图设计没有首先在中国境内投入商业利用
B.许某申请保护的布图设计不具有独创性
C.孙某的布图设计自创作完成之日起超过15年
D.刘某创作的集成电路布图设计符合受保护的相关规定
A.王某为个人使用复制东华的布图设计
B.王某对东华尚未投放市场的布图设计进行商业利用
C.王某明知某集成电路含有东华的布图设计仍将其投人商业利用
D.王某为营利目的复制东华的布图设计
A.未作约定的，其专有权由X公司享有
B.未作约定的，其专有权由Y公司享有
C.未作约定的，其专有权由X公司和Y公司共同享有
D.即使已做约定，也一律由X公司和Y公司共同享有
A.集成电路是以半导体材料为基片
B.集成电路中需至少有一个是有源元件
C.集成电路布图设计是一种三维配置
D.集成电路中须有三个以上元件
A.合议审查
B.复审程序的终止
C.实质审查
D.形式审查
